第253章 最大的难点[第1页/共2页]

俄然卡了一下。

国产光刻机的生长始终不温不火。

超辩白纳米光刻机。

双工件台就不太轻易了，传闻ASML研发的基于磁悬浮平面电机的双工件台产品，其掩模台的活动节制精度做到了2纳米，大大晋升了芯片加工的精度和效力。

目前商微电子的10nm光刻机，走的就是193nm光源淹没式光刻线路，但制造本钱太高，没有市场合作力，又面对着ASML的专利壁垒，故而没有推向市场。

“你说这么好的设备，不能用于芯片的制造，为甚么不能？”

陈今眼里闪动亮光说道。

光源方面，毫无疑问Z国的天下最强的阿谁，这个结论从激光兵器Z国较着抢先M国便能得出。

再加上一些关头设备的禁售。

张昱明摇着头道。

“先说说你的体例。”

陈今皱着眉头，这太可惜了吧。

这恰是ASML公司放开对Z国光刻机发卖的启事……峻厉的封闭，光刻机范畴，只会导致Z国以更快速率获得冲破。

“体例有！但实现太难了，以现有的技术，几近不成能实现。”

光刻机的制造难度首要在于三大关头设备：光源、双工件台、光刻机镜头。

兔子被逼急了，会要你的命。

如此先进的双工件台，本国专家曾傲慢地说：“全天下没有第二家机构能做出来。”

特别实在芯片范畴，EUV光刻机暴光15秒便能完成的任务，超辩白光刻机需求十多天。

而Z国的光刻机至今没有赶上外洋最早进程度，一方面是市场份额被人紧紧把控；其次走不异的技术线路，会不成制止地侵犯到ASML的知识产权，激发专利官司。

民用光学卫星的表示已如此夸大，军用当然更不得了。

“以是说，主如果一个光刻镜头的题目，对么？”

一个小小的光刻机光源，完整难不倒Z国的科研职员。

“乃至如果能做出如许的光刻镜头，我们能够在一台超辩白光刻设备内，集成十组、一百组光刻镜头，在直径超越100英寸的晶圆长停止光刻，10万、100万个的微型镜头同时事情，团体光刻效力，能够远远超越传统光刻机！”

“但大范围的芯片制造，只能老诚恳实地生长传统光刻。”

制造本钱只要ASML公司光刻机的几分之一，乃至十几分之一。

很多高精尖设备，不是说Z国人突破不了把持，而是专利壁垒挡在了那边。

来到这家公司调研的陈今，看到了面前这台22纳米超辩白光刻机，听了该公司的老总张昱明的先容后。

商海微电子公司。

张昱明摇着头，见陈今听得一脸当真，不得不持续道：“芯片的内部布局并不庞大，每个die都是一样的构造，每个晶体管也是不异的，一万个微型镜头，同步完成一样的事情，可大大加快超辩白光刻的效力。”

那就是暴光时候太长。

更加形象的比方是，传统光刻机是直接拍出一张照片，超辩白光刻则是拿一支笔，渐渐画出一张图片……效力不同庞大。

光刻机镜头天然也难不倒Z国的科研职员。

陈今问道，他感觉超辩白光刻这条线路，真的能够持续走下去，利用于大范围芯片制造。

“是的，首要的难点就是镜头。”

“好办，镜头好办……星海科技，有体例供应你所说的这类镜头。”陈今说道。

“但……太难了，以现有的产业制造才气，出产出那样的光刻镜头，起码得比及20年今后。”

而这款光刻设备，利用的是波长更长、更浅显的紫外光，在浅显环境下便能完成光刻，意味着国产光刻机利用低本钱光源，实现了更高辩白力的光刻。